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SiO2/Si上石墨烯薄膜的化学气相沉积法制备及其性能表征

论文摘要

以铜为催化剂,采用聚甲基丙烯酸甲酯（PMMA）和甲烷为碳源的化学气相沉积两步法,在SiO2/Si衬底上制备了石墨烯薄膜。利用拉曼光谱分析了薄膜的层数和质量,利用光学显微镜（OM）和扫描电子显微镜（SEM）分析了薄膜的尺寸与表面形貌。实验探究了生长时间、氢气流量和气体总压强等工艺参数对石墨烯薄膜层数和质量的影响,最终在优化条件下制得10μm级质量较高的多层石墨烯薄膜。

论文目录

  • 0 引言
  • 1 实验
  • 2 结果与讨论
  •   2.1 生长时间
  •   2.2 氢气流量
  •   2.3 气体总压强
  • 3 结论

    • 文章来源

    类型: 期刊论文

    作者: 刘喜锋,张鹏博,方小红,陈小源

    关键词: 石墨烯,化学气相沉积

    来源: 半导体光电 2019年04期

    年度: 2019

    分类: 信息科技,工程科技Ⅰ辑,工程科技Ⅱ辑

    专业: 无机化工,材料科学,工业通用技术及设备

    单位: 中国科学院上海高等研究院薄膜光电工程技术研究中心,中国科学院大学,上海科技大学物质科学与技术学院

    基金: 中国科学院,国家外国专家局创新团队国际合作伙伴计划项目

    分类号: TQ127.11;TB383.2

    DOI: 10.16818/j.issn1001-5868.2019.04.013

    页码: 513-516+522

    总页数: 5

    文件大小: 1146K

    下载量: 564

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    本文来源: https://www.lunwen66.cn/article/e02e4f7582036c4ad95d52c4.html