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两性离子聚合物硅垢阻垢剂的合成及阻垢性能

论文摘要

采用水溶液自由基聚合法,引入一种新型烯丙基型季铵盐阳离子——三羟乙基烯丙基季铵盐,与丙烯酰胺、2-丙烯酰胺-2-甲基丙磺酸(AMPS)在氧化-还原引发剂体系下合成一种两性三元共聚物。在静态条件下考察最佳合成条件:单体配比n(季铵盐阳离子)∶n(丙烯酰胺)∶n(AMPS)为1∶2∶1,聚合温度为60℃、反应时间为4 h、引发剂质量分数为4. 5%时,合成的聚合物阻垢性能最好。性能评价结果表明,阻垢剂质量浓度为120 mg/L时,对硅垢的阻垢率可达到78. 2%。通过加入阻垢剂前后垢样的电镜扫描图可知,加入阻垢剂的垢样疏松分散。

论文目录

  • 引言
  • 1 实验部分
  •   1.1 试剂及仪器
  •   1.2 三元共聚物的合成
  •   1.3 共聚物的结构表征
  •   1.4 共聚物的阻垢实验
  •     1.4.1 静态阻SiO2垢的实验方法
  •     1.4.2 静态阻硅酸盐垢的实验方法
  •     1.4.3 阻垢率的计算
  •   1.5 垢样的SEM分析
  • 2 结果与讨论
  •   2.1 共聚物的IR分析
  •   2.2 反应条件对共聚物阻垢性能的影响
  •     2.2.1 单体配比
  •     2.2.2 引发剂加量
  •     2.2.3 聚合反应温度
  •     2.2.4 聚合反应时间
  •   2.3 体系环境对阻垢剂阻垢性能的影响
  •     2.3.1 阻垢剂加量对阻垢性能的影响
  •     2.3.2 体系p H值对阻垢性能的影响
  •     2.3.3 体系温度对阻垢性能的影响
  •   2.4 垢样的扫描电镜图
  • 3 结论
  • 文章来源

    类型: 期刊论文

    作者: 于洪江,李德佳,代吉建

    关键词: 烯丙基型季铵盐,两性聚合物,硅垢,阻垢剂

    来源: 西安石油大学学报(自然科学版) 2019年02期

    年度: 2019

    分类: 工程科技Ⅰ辑

    专业: 石油天然气工业

    单位: 西安石油大学化学化工学院,河南油田分公司采油一厂

    分类号: TE358.5

    页码: 93-98

    总页数: 6

    文件大小: 257K

    下载量: 212

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    本文来源: https://www.lunwen66.cn/article/e736fb6122bee6fdf925fe62.html