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氦离子辐照下钨纳米丝的自保护行为

论文摘要

采用低能量（200 eV）大流强的He+辐照多晶钨材料,辐照温度为1023 K和1373 K,辐照剂量为1.0×1025～1.0×1026ions/m2。用称重、扫描电子显微镜、导电原子力显微镜等手段分析辐照后钨材料的质量损失、表面形貌和内表面缺陷分布,研究了刻蚀速率与表面形貌的关系。结果表明,具有粗糙钨纳米丝表面的钨样品刻蚀速率只有平滑表面的30%。其原因是,在大流强He+辐照下钨表面纳米丝的形成阻碍钨原子的溅射。这也意味着,钨纳米丝表面的形成可作为钨材料的自保护结构层,抑制ITER相关辐照下的强刻蚀。

论文目录

  • 1 实验方法
  • 2 结果和讨论
  •   2.1 表面形貌分析
  •   2.2 内部缺陷分析
  •   2.3 质量损失
  •   2.4 钨纳米丝层的自保护
  • 3 结论

    • 文章来源

    类型: 期刊论文

    作者: 吴良,范红玉,倪维元,许洋,鲍森,张雨薇,周思倩,牛金海

    关键词: 金属学,纳米钨丝,辐照,自保护

    来源: 材料研究学报 2019年11期

    年度: 2019

    分类: 工程科技Ⅰ辑

    专业: 材料科学,金属学及金属工艺

    单位: 大连民族大学物理与材料工程学院

    基金: 国家自然科学基金(11405023,21573035),辽宁省自然科学基金(20180510006),大连市青年科技之星(2017RQ149),国家级大学生创新创业训练(G201912026057),大连民族大学“太阳鸟”学生科研项目(2019287)~~

    分类号: TG174.4;TB383.1

    页码: 809-814

    总页数: 6

    文件大小: 1143K

    下载量: 42

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    本文来源: https://www.lunwen66.cn/article/fd1de0a62a7a2267b49bf01e.html