![环境温度对Ti-Mo-N薄膜摩擦磨损性能的影响]()
论文摘要采用多靶共聚焦射频磁控溅射仪制备了Mo含量为46.0%的Ti-Mo-N薄膜,研究了不同环境温度对薄膜摩擦磨损性能的影响.结果表明,Ti-Mo-N薄膜平均摩擦系数（μ）及...
![Sb掺杂ZnO单晶薄膜的结构和光学性能研究]()
论文摘要采用射频等离子体辅助分子束外延法制备高品质ZnO单晶薄膜,利用离子注入技术向ZnO单晶薄膜中注入不同注量的Sb离子,并对样品进行了氧气氛退火处理.利用高分辨双晶X射线衍...
![电镀法在氧化铟锡上制备铜锌锡硫薄膜的光谱特征（英文）]()
论文摘要低成本、环境友好的铜锌锡硫替代含贵金属和有毒金属的铜铟镓硒,是薄膜太阳能电池的最佳选择。电镀法是一种无需真空设备和靶材的低成本方法。一种更简单的制膜方法是在水溶液中共电...
![p-Si（100）衬底上反应磁控溅射制备HfO2薄膜的工艺和性能研究]()
论文摘要我们采用反应磁控溅射的方法在p-Si（100）衬底上制备了HfO2薄膜。我们对制备的工艺进行了摸索。设计了不同的实验条件。分别在不同的工艺条件下制备得到HfO2薄膜。在...
![PC/类黑色素薄膜的制备及性能研究]()
论文摘要以左旋多巴为单体,采用化学合成法制备了价格低廉的类黑色素纳米粒子,并与聚碳酸酯(PC)复合制备了PC/类黑色素薄膜,研究了薄膜的紫外屏蔽性能、热稳定性以及光老化性能。结...
![Fe离子注入ITO薄膜的光电磁性质研究]()
论文摘要ITO薄膜是一类被广泛应用的透明导电氧化物薄膜材料,也是稀磁半导体材料的候选之一。用MEVVA源在ITO薄膜中注入Fe离子,样品经快速热退火处理后,GAXRD分析注入的...
![掺杂与热处理对VO2膜的微观结构及可见光透过率的影响]()
论文摘要采用溶胶凝胶法制备了钨掺杂和不掺杂的二氧化钒薄膜,研究了不同退火温度、退火时间对薄膜微观结构的影响,以及不同掺杂量的钨离子对薄膜可见光透过率的影响。XRD结果表明:薄膜...
![工作压强对PECVD法制备DLC薄膜微观结构与力学性能的影响]()
论文摘要采用脉冲等离子体增强化学气相沉积方法（Pulse-PECVD）于316L不锈钢基体上制备类金刚石（DLC）薄膜,研究不同工作气压对DLC薄膜的沉积速率、表面形貌、微观结...
![织物和薄膜超声波焊接技术]()
论文摘要超声波可以有效地应用于黏合和切割织物和薄膜。超声波焊接技术在纺织、服装、医疗、包装和非织造行业的织物和薄膜中都能找到若干应用。本文对织物和薄膜超声波焊接原理、焊接分类、...
![磁控溅射功率对WO_x薄膜结构和光催化活性的影响]()
论文摘要采用射频磁控溅射法在非加热载玻片上制备WOx薄膜。通过X射线衍射仪（XRD）、场发射扫描电子显微镜（SEM）、X射线光电子能谱仪（XPS）、台阶仪、UV-Vis-NIR...
![MOFs薄膜的可控制备及在光波导气体传感器中的应用]()
论文摘要以硝酸锌、对苯二甲酸（bdc）和N,N’-二（4-吡啶基）-1,4,5,8-萘二酰亚胺（dpNDI）为原料,将锡掺杂玻璃光波导作为衬底,利用原位生长法在衬底表面生长[Z...
![溶胶凝胶工艺制备NaMgZnO复合薄膜结构和发光性能研究]()
论文摘要利用溶胶-凝胶旋涂工艺在玻璃基底上生长NaxMg0.2Zn0.8-xO（x=0.02、0.04、0.06）复合薄膜和本征ZnO薄膜.使用X射线衍射仪（XRD）、扫描电子...
![QB/T 2024-2012《凹版塑料薄膜复合油墨》内容解读]()
论文摘要本文系统解读QB/T2024-2012《凹版塑料薄膜复合油墨》的相关内容,对生产企业的出厂检验和检验机构的产品检测具有一定的意义。论文目录前言1范围2规范性引用文件3要...
![碳量子点在紫外线屏蔽聚偏氟乙烯薄膜制备中的应用]()
论文摘要通过水热法制备具有高吸光度的碳量子点（CQDs）,然后将其与聚偏氟乙烯（PVDF）基体混合,利用溶液法成膜得到CQDs/PVDF复合膜。通过傅里叶变换红外光谱（FT-I...
![金属有机物分解法制备HfO2-ZrO2纳米多层薄膜及其铁电性能研究]()
论文摘要HfO2基铁电薄膜是一种环境友好型的铁电材料,具有尺寸可缩放性、与CMOS兼容性好等多方面优势,有望代替传统钙钛矿结构材料成为铁电存储器件的主要组成材料之一.近年来,已...
![BOPET薄膜用高性能哑光母料的研究与应用]()
论文摘要研究对比了不同哑光母料配方、不同粒径二氧化硅以及母料添加量对薄膜哑光性能的影响。结果表明中心粒径为3μm二氧化硅具有优异的哑光效果,且汕头贝斯特采用双螺杆共混造粒的方法...
![非晶CuNiSnO薄膜的生长与光电性能]()
论文摘要采用脉冲激光沉积（PLD）法制备出一种新型的p型非晶氧化物-半导体非晶CuNiSnO（CNTO）。CNTO薄膜分别在室温（RT）与300℃的生长条件下获得,对其结构、光...
![射频反应磁控溅射生长ZAO薄膜的光电性质]()
论文摘要采用RF反应磁控溅射技术在不同制备条件下制备了Al掺杂ZnO薄膜（ZAO）,研究了不同条件下ZAO薄膜的光电性质。结果表明,薄膜电阻主要由晶界电阻决定,且导电性随Ar∶...
![斜角沉积和热处理对射频溅射ITO薄膜光学性能的影响（英文）]()
论文摘要运用射频溅射斜角沉积(OAD)制备铟锡氧化物(ITO)薄膜,对薄膜在250℃下进行热处理,采用基体倾斜和退火相结合的方法对材料的形貌和结构进行改性,从而改变材料的光学性...
![蓝磷及相关结构的电子性质研究和能带调控]()
论文摘要石墨烯的成功制备使二维材料研究产生了质的变化,石墨烯拥有超高的载流子迁移率和优良的光电性质和力学性质,使得研究人员加快了探索二维材料性质、应用等方面的步伐。在本文中采用...
