![半导体陶瓷电极欧姆接触的理论分析]()
一、半导体陶瓷电极欧姆接触理论分析（论文文献综述）刘冬季[1]（2020）在《SnO2压敏电阻新材料基础配方研究》文中进行了进一步梳理压敏电阻是电工材料领域最为重要的陶瓷材料之...
![CIGS叠层太阳能电池的中间层及稳定性的研究进展]()
论文摘要叠层太阳能电池的问世开创了廉价、大面积、高效率太阳能电池制造与应用的新时代,当前研究最深入、应用最广泛的叠层电池主要有非晶硅/微晶硅（α-Si∶H/mc-Si∶H）的硅...
![表面二氧化钛对三氧化钨薄膜电致变色性能的影响]()
论文摘要采用直流反应磁控溅射法在透明导电ITO玻璃上先沉积三氧化钨（WO3）薄膜,然后在其表面沉积二氧化钛（TiO2）.利用场发射扫描电子显微镜（FE-SEM）、X射线衍射仪（...
![AlCrTaTiZrMo高熵合金氮化物扩散阻挡层的制备与表征]()
论文摘要目的制备15nm的（AlCrTaTiZrMo）N六元高熵合金氮化物薄膜,并对其扩散阻挡性能进行表征。方法使用直流磁控溅射设备在单晶硅上沉积（AlCrTaTiZrMo）N...
![基于正交试验评价退火工艺对P-ITO薄膜光电性能的影响]()
论文摘要采用磁控溅射法在玻璃基底上制备P-ITO薄膜,并在氮气气氛下进行不同条件的退火处理。以薄膜厚度、退火温度和退火时间为正交试验因子,通过正交试验讨论了这三个因子对薄膜方块...
![金属表面磁控溅射TiN涂层制备的实验方法]()
论文摘要锆合金由于中子吸收截面小等优点被广泛应用于核电行业。为了进一步提高其耐腐蚀性能和耐高温氧化性能,可采用表面涂层工艺。本文采用磁控溅射工艺在锆合金表面制备TiN涂层,并测...
![汽车用316L不锈钢表面磁控溅射TaN涂层组织及耐磨性能分析]()
论文摘要为了提高汽车用316L不锈钢表面磁控溅射TaN涂层的耐磨性能,研究分析了不同N2流量下TaN涂层的组织和性能。结果表明:通入的N2流量很小时,形成的TaN涂层表面相对粗...
![高端耐用全固态锂电池Sn-Ni合金负极薄膜材料制备及其电化学性能研究]()
论文摘要金属锡能与锂形成Li2Sn5、LiSn、Li22Sn5等多种合金,理论质量比容量可达到997mAh·g-1,是碳负极材料的两倍,具有良好的产业化前景,已成为全固态锂电池...
![氧氩比对磁控溅射CuO薄膜特性的影响]()
论文摘要采用射频磁控溅射法利用铜靶在硅片和蓝宝石衬底上制备CuO薄膜,研究氧氩比对CuO薄膜的晶体结构、表面形貌和光电特性的影响。X射线衍射测试结果显示,较低的氧氩比下,薄膜样...
![铝合金轮毂磁控溅射镀膜对高光介质涂膜耐候性影响的研究]()
论文摘要利用磁控溅射镀膜(PVD)新工艺涂覆铝轮毂,研究了不同溅射功率下PVD镀膜表面形貌及紫外透过率。对使用2种不同介质粉(聚酯体系介质粉、普通介质粉)喷涂得到的PVD镀膜进...
![一种Ni-Cr@Al/CuO钝感含能元件的制备及性能]()
论文摘要为了提高Ni-Cr薄膜发火件的安全性和点火能力,使用磁控溅射技术将Al/CuO含能薄膜与Ni-Cr薄膜发火件复合,制备了一种新型的Ni-Cr@Al/CuO钝感含能元件。...
![磁控共溅射法在聚碳酸酯柔性基底镀TiN研究]()
论文摘要在较低的温度下,采用磁控溅射工艺在聚碳酸酯（PC）表面制备了TiN薄膜。应用激光共聚焦显微镜（CLSM）和X射线衍射仪（XRD）等研究了薄膜制备工艺对薄膜的表面微观形貌...
![用于智能窗的低温相变VO2薄膜]()
论文摘要用磁控溅射法和退火处理在石英衬底上制备了高质量的二氧化钒薄膜,实验结果显示制备的薄膜为纳米级,晶粒均匀。相变前后薄膜电阻变化了4个数量级,说明制备的薄膜具有很好的相变特...
![不同压强下制备镓-镁共掺杂氧化锌薄膜的性能研究]()
论文摘要以镓-镁掺杂的氧化锌（ZnO）陶瓷靶作为溅射源,采用磁控溅射技术在玻璃基片上沉积镓-镁共掺杂ZnO（ZnO:Ga-Mg）薄膜样品.通过X射线衍射（XRD）和扫描电子显微...
![太阳能电池用FTO/NTO复合薄膜的研究]()
论文摘要采用磁控溅射法在玻璃衬底上制备了FTO/NTO复合薄膜.通过紫外可见光谱（UV-vis）、双电测四探针仪和电化学工作站对薄膜的光电性能进行表征,测量并分析了NTO阻挡层...
![磁控溅射制备V2O5薄膜及全固态薄膜锂电池研究]()
论文摘要V2O5具有容量高、循环稳定、易于制备成薄膜等特点,是全固态薄膜锂电池理想的正极材料。采用磁控溅射法,以V2O5为靶材制备了薄膜,研究了溅射气体Ar/O2对薄膜结构、形...
![SrTiO3衬底表面外延生长TiCN薄膜工艺参数优化及疏水疏油性能]()
论文摘要采用中频反应磁控溅射技术在SrTiO3衬底上外延生长TiCN薄膜,通过正交试验方案、单因素试验方案以及性能测试来探究磁控溅射工艺参数对薄膜结构和性能的影响,并且优化了工...
![高介电氧化铪薄膜的制备与性能研究]()
论文摘要采用磁控溅射法分别在Si片和玻璃片上制备了HfO2薄膜,并用SEM、XRD、XPS、紫外可见分光光度计和HP4284A精密LCR测试仪对HfO2薄膜的表面形貌、微观结构...
![难熔金属溅射靶材的应用及制备技术]()
论文摘要应用于微电子、集成电路、光伏电池、平面显示器、装饰镀膜玻璃等行业的溅射靶材需求量逐年增大,这些行业对溅射用难熔金属靶材的纯度、致密度、尺寸精度、微观组织、结晶取向等性能...
![真空热处理提高烧结钕铁硼镀Cu层结合力的研究]()
论文摘要目的提高烧结钕铁硼表面镀Cu膜层结合力,改善可焊性,进一步制备生物友好的强耐蚀性防护薄膜。方法采用磁控溅射技术在钕铁硼表面制备约7μm厚的Cu膜,研究热处理温度和时间对...
