论文摘要结合近几年的相关研究报道,归纳总结磁控溅射法制备薄膜过程中,工作气体压力变化对膜层沉积速率、膜层形貌和表面粗糙度的影响及相关规律,为磁控溅射制备Mo薄膜、ZnO光学膜层...
论文摘要采用磁控溅射法以石墨为靶材在玻璃衬底上沉积了类金刚石(DLC)薄膜,用原子力显微镜表征了不同氮气流量条件下生长薄膜的形貌,用拉曼光谱仪、X射线光电子能谱仪和分光光度计分...
论文摘要综述了二氧化硅(SiO2)薄膜的制备方法和研究进展,介绍了磁控溅射、溶胶凝胶法和真空镀等SiO2薄膜制备方法及其优缺点,论述SiO2薄膜在光学、电学和光电等性能研究方面...
论文摘要采用磁控溅射技术在具有织构结构的气体扩散层(GDL)表面制备了可应用于氢氧质子交换膜燃料电池的超低Pt载量阴极催化层,并通过SEM、轮廓仪和XRD等测试方法表征了GDL...
论文摘要为了控制和改善耐腐蚀铝涂层的组成和形貌,首先采用磁控溅射法在Q235钢表面制备铝涂层,然后通过热浸镀法在其表面制备具有一定厚度的耐腐蚀铝涂层。利用扫描电子显微镜及其附带...
论文摘要低维非线性材料,尤其是CMOS工艺兼容材料,在光电器件和全光器件的集成化和小型化方面具有非常重要的应用。氮化硅作为一种重要的CMOS工艺兼容材料,其薄膜原子成分及结构的...
论文摘要目前,利用离化C2H2和共溅WC靶相结合(PACVD+UBMS)制备WC-C膜,以及膜结构、性能与工艺参数间关系的文献报道较少。采有PACVD+UBMS在Ti600钛合...
论文摘要采用磁控溅射的方法,在雕塑用304不锈钢基材表面制备了TiN和TiN/Ti涂层,对比分析了两种涂层的表面和截面形貌、元素分布、物相组成和电化学腐蚀性能。结果表明,TiN...
论文摘要室温下采用射频磁控溅射方法在蛋白质基底上沉积了氧化锌(ZnO)薄膜,研究了溅射功率对ZnO薄膜表面形貌和光学性能的影响.X射线衍射测试结果表明,所制备的薄膜均为纤锌矿结...
论文摘要为研究Ti掺杂的NbN薄膜的机械和摩擦学特性,采用射频和直流磁控共溅射技术制备了Ti掺杂的NbN(Ti:NbN)薄膜.利用X射线衍射仪(XRD)、能量色散X射线光谱仪(...
论文摘要氮化钨(W2N)薄膜是具有优异机械性能的硬质过渡金属氮化物,在保护涂层、扩散势垒层等领域具有广泛的应用。本文采用磁控溅射法,分别在Si(100)、A304不锈钢衬底上成...
论文摘要采用多靶共聚焦射频磁控溅射仪制备了Mo含量为46.0%的Ti-Mo-N薄膜,研究了不同环境温度对薄膜摩擦磨损性能的影响.结果表明,Ti-Mo-N薄膜平均摩擦系数(μ)及...
论文摘要目的通过在不锈钢根管锉表面镀覆TiN、ZrN薄膜,以提高其切削性能。方法采用磁控溅射技术,调整沉积时间、基片偏压、占空比等工艺参数在不锈钢根管锉上分别沉积TiN、ZrN...
论文摘要本文通过直流磁控溅射法在96氧化铝基板上沉积镍铬硅薄膜,然后采用光刻及湿法刻蚀工艺实现不同要求的电阻图形。图形化过程中,分别对比HNA刻蚀体系、TMAH刻蚀体系以及催化...
论文摘要采用中频双极脉冲(IFBP)和射频(RF)磁控溅射分别在(100)取向的单晶Si衬底上沉积C掺杂h-BN(h-BN:C)薄膜,随后在95%Ar+5%H2混合气氛中进行7...
论文摘要利用磁控溅射薄膜沉积技术设计制备了具有纳米阵列结构的3种(CuO、Cu4O3、Cu2O)铜氧化物薄膜,将其直接用作锂电池负极材料进行电化学性质的表征测量.经循环200次...
论文摘要采用磁控溅射制备Ga掺杂ZnO(GZO)/CdS双层膜在p型晶硅衬底上以形成GZO/CdS/p-Si异质结器件。纳米晶GZO/CdS双层膜的微结构、光学及电学特性,通过...
论文摘要采用低成本材料取代铂对电极对于染料敏化太阳能电池的发展非常重要.金属硫族化合物MoSe2对于I3-的还原反应具有电催化活性,有望用作染料敏化太阳能电池对电极材料.而除了...
论文摘要目的研究溅射功率对CoCrFeNi高熵合金薄膜硬度和电阻率的影响,期望获得同时具有高硬度和高电阻率的高熵合金薄膜,为其在电阻薄膜领域的应用提供实验基础。方法在不同溅射功...
论文摘要室温下使用磁控溅射粉末靶在玻璃基板上制备AZO(Al:ZnO)二维薄膜;将此薄膜作为基底,利用水热法生长不同掺Al量的一维AZO纳米棒阵列,构建三维结构薄膜。通过扫描电...