氮气流量论文
氮气流量对非晶SiNx到含有Si3N4晶粒的富硅-SiNx薄膜转变的影响
论文摘要基于等离子体增强化学气相沉积(PECVD)技术,应用高纯硅烷和氮气为反应气体,通过设置氮气流量分别为100sccm、200sccm、300sccm和400sccm四个梯...氮气流量对磁控溅射制备类金刚石薄膜性能的影响
论文摘要采用磁控溅射法以石墨为靶材在玻璃衬底上沉积了类金刚石(DLC)薄膜,用原子力显微镜表征了不同氮气流量条件下生长薄膜的形貌,用拉曼光谱仪、X射线光电子能谱仪和分光光度计分...