等离子体增强化学气相沉积论文

用PECVD工艺制备功能装饰氧化硅薄膜的性能
论文摘要用PECVD技术制备氧化硅薄膜,研究了生成样品的位置对薄膜成分、结构和性能的影响,探讨了制备兼具高透光性和耐刮擦性的功能装饰氧化硅薄膜的方法。结果表明,在阳极位置生成的...