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磁控溅射制备AlCrWTaTiNb高熵合金薄膜低温等离子体氮化
论文摘要采用磁控溅射技术沉积了AlCrWTaTiNb多元高熵合金薄膜,在400℃以下采用高密度等离子体设备对沉积的薄膜进行了氮化处理.用X射线衍射(XRD)、原子力显微镜和纳米...