感应耦合等离子体刻蚀论文

全息光刻-反应离子束刻蚀制作硅光栅
论文摘要全息光刻-反应离子束刻蚀是一种非常重要的制作光栅的方法,而如何解决全息曝光中的驻波问题,提高光栅的制作质量,实现该方法向硅材料等高反射率基底的推广应用是一项急需解决的问...