• 厚层抗蚀剂成像特性研究

    厚层抗蚀剂成像特性研究

    肖啸[1]2003年在《厚层抗蚀剂成像特性研究》文中研究表明从二十世纪九十年代以来,微电子机械系统(MEMS)发展迅速,促进了其加工方法的不断完善和进步。近年来,作为制作优质大高宽比微结构的厚层抗蚀剂光刻术以其工艺简单、制作成本低等优点受到国际上广泛重视。随着MEMS的迅速发展,其结构愈来愈复杂,高...