邻苯二甲酸二正辛酯论文

论文摘要对分子印迹聚合物进行磁性修饰,磁性印迹聚合物的合成条件为邻苯二甲酸二正辛酯（模板）、α-甲基丙烯酸（单体）和乙二醇二甲基丙烯酸酯（交联剂）的物质的量比为1∶6∶30、引...