![ZnO薄膜的XPS研究]()
一、ZnO薄膜的XPS研究（论文文献综述）姜清芬[1]（2021）在《离子注入极性氧化锌薄膜的光电性质研究》文中研究指明氧化锌（ZnO）是Ⅱ-Ⅵ族宽禁带的半导体材料,在室温下的...
![WC-Co合金表面离子注入法制备钇涂层及其摩擦学性能]()
论文摘要为了提高硬质合金的表面耐磨性能,在通入氮气和未通入氮气的2种情况下,利用金属蒸气真空弧（MEVVA）离子源采用离子注入法在YG8型WC-Co合金表面成功制备了钇涂层。结...
![Fe基非晶/氮化物双层结构制备与表征]()
论文摘要以Fe-Si-B为代表的非晶合金薄带具有高磁导率、低矫顽力及低铁损等优异软磁性能,特别适用于作为变压器和传感器的关键材料。然而,其低的饱和磁矩限制了其作为软磁合金性能的...
![Ti6Al4V合金表面离子注入N+C,Ti+N和Ti+C性能研究（英文）]()
论文摘要采用等离子体基离子注入的方法在Ti6Al4V合金表面分别注入N+C、Ti+N和Ti+C元素,注入剂量均为2×1017ions/cm2,N+C和Ti+N元素的注入负脉冲偏...
![Fe离子注入ITO薄膜的光电磁性质研究]()
论文摘要ITO薄膜是一类被广泛应用的透明导电氧化物薄膜材料,也是稀磁半导体材料的候选之一。用MEVVA源在ITO薄膜中注入Fe离子,样品经快速热退火处理后,GAXRD分析注入的...
![磁旋光玻璃平板及脊形波导的制备和特性研究]()
论文摘要光隔离器只允许一个方向的光通过而隔离反方向光的传输,是光路系统中重要元器件之一。如今商用的光隔离器都是体型光隔离器,一般体型光隔离器存在体积较大的问题,不利于集成化。随...
![本征缺陷与Cu离子注入对单晶TiO2及ZnO磁性的影响]()
论文摘要因在信息处理与存储领域具有潜在重要应用价值,同时利用电子电荷属性和自旋属性的自旋电子学器件成为多学科交叉研究中的热点。稀磁半导体（DilutedMagneticSemi...
![射频及脉冲偏压等离子体鞘层流体动力学模拟]()
戴忠玲[1]2004年在《射频及脉冲偏压等离子体鞘层流体动力学模拟》文中认为针对导体基板,本文建立了自洽的射频偏压等离子体鞘层流体动力学模型,研究了等离子体参数对无碰撞射频偏压等离子体鞘层物理特性和轰击到基板上离子能量分布的影响。模型包括描述离子运动的含时间相关项的连续性方程、动量方程和决定鞘层内电...
![重离子致DNA双链断裂的AFM观测和机理研究]()
隋丽[1]2003年在《重离子致DNA双链断裂的AFM观测和机理研究》文中指出脱氧核糖核酸(DNA)是生物体中一类重要的大分子。它是生命信息的载体，也是辐射生物学效应的最重要的靶分子。电离辐射可引起DNA多种类型的损伤，如碱基损伤、糖基损伤、单链和双链断裂以及DNA交联等，其中双链断裂(DSB)是辐...
![复合离子注入形成SOI结构及其结构和性能的研究]()
易万兵[1]2003年在《复合离子注入形成SOI结构及其结构和性能的研究》文中认为SOI(SiliconOnInsulator)技术在军用、航天和商业领域都已取得突破性进展，但仍然存在一些问题。本论文主要研究氢氧共注入以降低SIMOXSOI圆片生产成本，和氮氧共注入形成新结构以提高抗总剂量辐照性能。...
