平面抛光论文

平面光学元件抛光中沥青抛光胶材料特性研究
论文摘要化学机械抛光(CMP)是平面光学元件超精密加工的重要手段,其所用的沥青材料抛光胶虽历史悠久,但仍需要人工进行试错选型。针对国内外多种沥青抛光胶,进行了材料特性分析,包括...