全息光刻论文

侧向光栅耦合DFB-LD制备技术研究
论文摘要近年来侧面光栅耦合分布反馈半导体激光器（LC-DFB）,在单纵模半导体激光器研究中显示了独特优势,受到国内外研究者的广泛关注。通过在激光器表面引入侧面周期性微扰光栅结构...
全息光刻-反应离子束刻蚀制作硅光栅
论文摘要全息光刻-反应离子束刻蚀是一种非常重要的制作光栅的方法,而如何解决全息曝光中的驻波问题,提高光栅的制作质量,实现该方法向硅材料等高反射率基底的推广应用是一项急需解决的问...
基于金属掩模的全息光刻微纳光栅制备工艺
论文摘要优化设计了基于金属掩模的全息光刻微纳光栅制备工艺方案,基于GaAs衬底利用全息光刻和感应耦合等离子体（ICP）干法刻蚀技术制备出周期为860nm的光栅图形。将磁控溅射生...