论文摘要由于容性耦合等离子体(CCP)具有诸多独特的优势,因此被广泛应用于半导体工业中的介质层刻蚀与薄膜沉积工艺。特别地,双频或多频电源驱动放电已被证实是一种实现离子通量和离子...
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