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膜厚对超薄四面体非晶碳膜应力和结构的影响(英文)
论文摘要利用自主研制的45°双弯曲磁过滤阴极真空电弧技术制备超薄四面体非晶碳膜,研究了膜厚变化对超薄四面体非晶碳膜残余应力和微观结构的影响。结果表明:膜厚从7.6nm增加到50...