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斜角沉积和热处理对射频溅射ITO薄膜光学性能的影响(英文)
论文摘要运用射频溅射斜角沉积(OAD)制备铟锡氧化物(ITO)薄膜,对薄膜在250℃下进行热处理,采用基体倾斜和退火相结合的方法对材料的形貌和结构进行改性,从而改变材料的光学性...