硬掩膜论文

基于金属掩模的全息光刻微纳光栅制备工艺
论文摘要优化设计了基于金属掩模的全息光刻微纳光栅制备工艺方案,基于GaAs衬底利用全息光刻和感应耦合等离子体（ICP）干法刻蚀技术制备出周期为860nm的光栅图形。将磁控溅射生...