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利用原位压痕技术表征原子层沉积Al2O3超薄纳米薄膜的力学性能
论文摘要通过原子层沉积技术(ALD)在Si基片上制备厚度为20~60nm的Al2O3薄膜,采用三维光学显微镜和透射电子显微镜分别分析了它们的表面粗糙度和微观形貌;采用自主研发的...