![高温抗氧化铱涂层复合制备技术展望]()
论文摘要金属铱具有高熔点及低氧渗透率,是理想的氧气扩散屏障材料,为重要的高温抗氧化防护涂层材料之一,在航空航天领域具有广阔的应用前景。综述了目前较常采用的几种铱涂层制备技术的特...
![厚度与带隙可调、原子层沉积的超薄五氧化二钒纳米晶薄膜（英文）]()
论文摘要利用原子层沉积方法制备V2O5纳米片晶薄膜.薄膜厚度可以被精确控制,并对纳米晶V2O5薄膜的结构形貌、光学带隙和拉曼振动有显著影响.原子层沉积过程中V2O5薄膜生长的两...
![原子层沉积Al2O3薄膜的制备与性能研究]()
论文摘要采用原子层沉积法分别在Si片和玻璃片上制备了Al2O3薄膜,并用SEM、XRD、XPS、椭偏测厚仪、紫外可见分光光度计和HP4284A精密LCR测试仪对Al2O3薄膜的...
![原子层沉积技术在含能材料表面修饰中的应用研究进展]()
论文摘要介绍了原子层沉积技术的原理和特点,并对比传统物理及化学气相沉积薄膜制备工艺,总结了原子层沉积技术在含能材料合成及表面修饰改性方面所具有的薄膜厚度精确可控、工作温度低和大...
![利用原位压痕技术表征原子层沉积Al2O3超薄纳米薄膜的力学性能]()
论文摘要通过原子层沉积技术（ALD）在Si基片上制备厚度为20～60nm的Al2O3薄膜,采用三维光学显微镜和透射电子显微镜分别分析了它们的表面粗糙度和微观形貌;采用自主研发的...
![TiO2薄膜基底上制作多碱光电阴极的探索研究]()
论文摘要在TiO2薄膜基底上制作多碱光电阴极,发现多碱光电阴极制作工艺无法正常进行,多碱光电阴极的颜色为暗黑色,并且阴极灵敏度非常低,而正常的多碱光电阴极应为红褐色。其中TiO...
![聚乙烯醇改性对原子层沉积氧化铝复合隔膜的影响]()
论文摘要原子层沉积技术（ALD）是一种具有表面自限性反应的薄膜生长技术,可以精准控制薄膜的生长。本文研究了ALD技术包覆聚烯烃隔膜,制作纳米氧化铝聚烯烃复合隔膜。聚烯烃膜表面无...
![Al2O3/ZnO一维光子晶体着色金属/纤维的制备及性能]()
论文摘要光子晶体作为构筑结构色的一种重要手段,它通过选择性的反射位于可见光区某一频率范围内的光波而显现出鲜艳的色彩。与传统的有机染料和颜料相比,光子晶体结构色具有高亮度、高饱和...
![基于原子层沉积技术的石英管表面减反射膜的制备]()
论文摘要采用原子层沉积(ALD)技术在石英管表面制备了薄膜,研究了该薄膜的均匀性,以及石英管的内径、外径、长度对沉积薄膜均匀性的影响。以单波长减反射膜为研究对象,实验测试的反射...
